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MOS管的工艺流程具体是怎么操作呢?

2020-02-26 15:22:38 

MOS也叫场效应管,是电源电路中非常敏感的电子元器件,主要起开关的作用。在市场上我们见到的大大小小的品牌MOS管,除丝印之外,看上去外表都一样,大小相当,并无实质性差别。然而,要成为一颗率、高品质的MOS管,要通过各种测试以及老化。

MOS主要的工艺流程:

1.将硅单晶切成大圆片,并加以研磨、抛光。

2.抛光后的片子经仔细清洗后,热生长一层二氧化硅层。(一次氧化)

3.用光刻技术可除漏、源扩散窗口上的二氧化硅。(一次光刻)

4.进行选择性的杂质扩散。

5.去处所有二氧化硅,重新生长一层质量良好的栅极二氧化硅层,并进行磷处理。(二次氧化+磷处理)

6.刻除漏、源引线窗口上的二氧化硅。(二次光刻)

7.在真空系统中蒸发铝。(铝蒸发)

8.反刻电极。

9.进行合金。

10.检出性能良好的管芯,烧焊在管座上,键合引线。

11.监察质量(中测)

12.封上管帽,喷漆。

13.总测。

14.打印,包装。


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